О компании

ООО «Соленна» основано в 2021 году. Основной вид деятельности – научные исследования и разработки в области нано-технологий. Дизайн-центр специализируется на исследованиях и разработке приборов и компонентов в области оптического приборостроения, опто-, микро- и наноэлектроники, МЭМС, сенсорики. Мы разрабатываем уникальные лазерно-стимулированные технологические процессы, включая элементы систем быстрого прототипирования функциональных блоков полупроводниковых приборов, сенсоров, гибкой электроники, СВЧ-техники, гибридных, монолитных и кремниевых ИС, оборудование для их реализации (для использования в лабораторных условиях, организации производства малых серий).

Компания применяет ключевые технологии:

– технология формирования упорядоченных массивов поверхностных наноструктур одностадийным методом многолучевой интерференционной LCVD – ЛПФХО (laser-induced chemical vapor deposition) нанолитографии (one-stage non-photo multi-ray interferential LCVD nanolithography) с 1-мерной периодичностью;

– аддитивная технология лазерного (в том числе лазерографического) формирования планарных функциональных структур (laser additive micro technologies);

– технология формирования методом LCVD 3D-структур (структур с высоким аспектным отношением – отношением высоты к диаметру основания более, чем 5:1);

– методика формирования барьеров Шоттки площадью 2х2 мкм методом LCVD на подложках из кремния для детектирования сигналов с частотой модуляции до 500 МГц.

manager
Проектный менеджерСтанислав Юдин
manager
Куратор РОТимур Бъядовский
manager
Проектный менеджерСтанислав Юдин
manager
Куратор РОТимур Бъядовский

Проекты

Оборудование для безмасочной аддитивной лазерной нанолитографии
Описание проекта
Процесс получения планарных наноструктур в микроэлектронике (наноэлектронике) - сложная, многоступенчатая последовательность технологических операций. Для их выполнения используется целая линейка дорогостоящего оборудования, а также специальные фотошаблоны и фоторезист. Проводится: установка нанесения, проявления и удаления фоторезиста, установка совмещения и экспонирования, установка физического осаждения. Процесс является универсальным, то есть формирует любой рисунок, но дорог как в капитальных затратах, так и в операционных. Предназначен для больших объемов производства. Заменой может выступить предлагаемая нами аддитивная технология одностадийного осаждения 2-мерных периодических наноструктур без использования фотошаблонов и фоторезиста. Для достижения цели – создания высокопроизводительной и дешевой методики литографии поверхностных микро- и наноструктур, мы комбинируем лазерную интерференционную литографию (позволяет получать упорядоченные структуры на больших площадях, с размером отдельного элемента 100 нм и менее, без применения масок и линзовой оптики) и метод лазерно-стимулированного химического осаждения из паровой фазы (LCVD), позволяющий создавать микроструктуры из широкого спектра материалов в одностадийном процессе.

Руководитель

УСУБАЛИЕВНУРЛАНАБДЫНАЗАРОВИЧ
Генеральный директор

Информация о компании

ОРН
1123993
ИНН
5408029781
ОГРН
1215400023959
КПП
540801001
Статус
Действующая
Учредители
УСУБАЛИЕВ НУРЛАН АБДЫНАЗАРОВИЧ
Уставный капитал
10 000
630090, Новосибирская область, Г.О. ГОРОД НОВОСИБИРСК, Г НОВОСИБИРСК, УЛ ИНЖЕНЕРНАЯ, Д. 20, ОФИС 4, РАБОЧЕЕ МЕСТО 16/4

Похожие компании